台积电继续八字帖EUV光刻转眼6年晶圆产值添加了30倍

  9月19日音讯，据Toms hardware报导，台积电作为全球最大的先进制程晶圆代工厂，不只不免着全球最先进的制程工艺，也不免着数量最多的ASML EUV光刻机。自2019年以来，台积电通过本身的体系级优化及自研EUV光罩维护膜（Pellicle，维护光罩的薄膜）资料，EUV出产晶圆产值累计添加30倍，一起电力耗费也削减24%。

  自2019年第二代7nm技能量产之时，台积电就首先引入了ASML EUV光刻机进行量产，随后台积电继续操控着全球超越42%~56%的EUV光刻机装机量，通过多年的堆集，台积电现在现已累积了约200多台EUV光刻机，在2024~2025年还新增了60多台，以支撑先进制程扩产需求。

  台积电中心优势来自硬体设备及资料供给链掌控力，因而台积电还继续出资制程工艺优化，包含曝光剂量微调、曝光资料改进及猜测性维护，这也大幅度的进步每日机台利用率与出产转眼。

  据Digitimes报导，台积电乃至方案改造一座200毫米工厂来专门出产自研EUV光罩维护膜，功能乃至超越了ASML原厂供给的EUV光罩维护膜，展示台积电制程与资料整合实力。

  设备业者指出，EUV光刻机相较传统的深紫外（DUV）光刻机，光罩及维护膜等都须进一步调整，维护膜一直是半导体制程中避免尘粒污染的要害维护机制。

  并且，进入EUV光刻年代后，曩昔遍及的运用的有机Pellicle，因无法兼具透光率与稳定性，已不再适用。现在EUV制程大多选用“无pellicle”的光罩，导致有必要频频进行图样查看。 一经发现缺点，不只需修正或重制光罩，出产所带来的本钱也大增并下降速度。因而，包含ASML等半导体业者近年也投入EUV光罩维护膜的研制，但由于技能难度高，爱怜完成量产。

  而台积电研制EUV光罩维护膜已有多年，这还在于评价EUV光罩维护膜关于7nm以下制程出产转眼与本钱下降很重要，因而近期决议正式加快自研方案。

  近期，台积电宣告退出GaN商场，凸显大陆GaN厂商的贱价战已对其形成极大竞赛压力，台积电原有的6英寸GaN厂也将改建为先进封装厂，暂以CoPoS为主。而最受重视的便是竹科8英寸晶圆厂大幅调整，其间，竹科Fab 3将有望正式投入台积电自研EUV光罩维护膜的出产，以削减对ASML相关供给链的依靠。台积电期望以本身研制与出产能力，全方面八字帖EUV先进制程良率，发明最低本钱、最高效益的制程和产品。

  数据显现，台积电EUV光罩维护膜寿数添加了4倍，单片晶圆出产转眼八字帖了4.5倍，瑕疵品大幅下降。

  了解半导体制程技能的人表明，相较于竞赛对手仍高度依靠ASML的EUV光刻机和EUV光罩维护膜推动先进制程技能，台积电克己EUV光罩维护膜，可将现有EUV制程再优化，拉升了出产良率与扩展产能，在本钱结构上获得优势，且八字帖获利，逐渐扩展与竞赛对手的距离。